როგორ უზრუნველვყოთ ცხელი მავთულის საფარის ხარისხი

1,ცხელი მოოქროვილი მავთულიდამზადებულია მაღალი ხარისხის დაბალი ნახშირბადოვანი ფოლადის მავთულხლართების დამუშავებით, დამზადებულია მაღალი ხარისხის დაბალი ნახშირბადოვანი ფოლადისგან, ნახაზის ფორმირების, მჟავე ჟანგის მოცილების, მაღალტემპერატურული დუღილის, ცხელი გალვანიზაციის, გაგრილების და სხვა პროცესების შემდეგ.მყარი საიზოლაციო პროდუქტების საიზოლაციო ფენა, შეიძლება გამოყენებულ იქნას არა.16 ~ 18 გალვანზირებული რკინის მავთულის ორჯაჭვიანი შეკვრა, სავალდებულო მანძილი არ უნდა იყოს 400 მმ-ზე მეტი.ამასთან, მილები ან შესაბამისი მოწყობილობა ნომინალური დიამეტრის ტოლი ან მეტი 600 მმ-ზე უნდა იყოს შეფუთული და გამაგრებული №1 გალვანური რკინის მავთულებით.10-დან არა.14 ან შესაფუთი ფოლადის ღვედი 500 მმ მანძილით.

2, ნახევრად მყარი და რბილი საიზოლაციო საიზოლაციო ფენა, მილის დიამეტრის და აღჭურვილობის ზომის მიხედვით, შეფუთვის ფოლადის ქამრის გამოყენება, No.14-16გალვანზირებული რკინის მავთულიან 60 მმ წებოვანი ლენტის სიგანე შესაკრავად.დამაკავშირებელი მანძილი, ნახევრად ხისტი საიზოლაციო პროდუქტები არ უნდა იყოს 300 მმ-ზე მეტი;რბილი თექისთვის, საფენი არ უნდა იყოს 200 მმ-ზე მეტი.

3, რათაგალვანზირებული რკინის მავთულიდანალექი ფენის ზედაპირზე ზედაპირული ფირის ფენის ლოკალური მოცილება, ზედაპირის ჩართვისა და სხვა დეფექტების აღმოჩენა და დამუშავება შესაძლებელია ჩვეულებრივი ტექნოლოგიით;ჭარბი ქაფი წარმოიქმნება, როდესაც საპონი და ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები, როგორიცაა საპონიფიცირებული ცხიმები, შედის ავზში.ქაფის წარმოქმნის ზომიერი სიჩქარე შეიძლება უვნებელი იყოს.ავზში დიდი დენიერის პატარა, ერთგვაროვანი ნაწილაკების არსებობამ შეიძლება ქაფის ფენის სტაბილიზაცია მოახდინოს, მაგრამ ჭარბი მყარი ნაწილაკების დაგროვებამ შეიძლება გამოიწვიოს აფეთქება.

4, გააქტიურებული ნახშირბადის ხალიჩით ზედაპირული აქტიური ნივთიერებების მოსაშორებლად.ან ფილტრაციის გზით, რათა ქაფი არ იყოს ძალიან სტაბილური, რაც ეფექტური ზომებია;ასევე უნდა იქნას მიღებული სხვა ზომები სურფაქტანტის შეყვანის შესამცირებლად.ელექტრული დამუშავების სიჩქარე აშკარად შეიძლება შემცირდეს ორგანული ნივთიერების დამატებით.მიუხედავად იმისა, რომ ქიმიური ფორმულირებები ხელს უწყობს დეპონირების მაღალ სიჩქარეს, ორგანული ნივთიერებების დეპონირება არ აკმაყოფილებს საფარის სისქის მოთხოვნებს, ამიტომ გააქტიურებული ნახშირბადი შეიძლება გამოყენებულ იქნას აბაზანის დასამუშავებლად.